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什么是真空镀膜?真空镀膜是指在真空中加热镀膜材料使其蒸发(气化)、附着在基板表面形成薄膜的方法。由于真空排除了不纯物、能夠形成致密的薄膜。
蒸发方式成膜是一种可靠的和适应性很强方法。该方法可以使用多样的金属半导体和电介质成膜材料。
利用热蒸发或者电子束蒸发源、可以得到高的镀膜速率和优质的膜厚分布。
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